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美光發(fā)布新款內(nèi)存:30nm工藝 用于超輕薄設備

—— 30nm工藝制造的DDR3L-RS DRAM已經(jīng)開始批量供應
作者: 時間:2012-09-19 來源:中文業(yè)界資訊站 收藏

   三星昨日宣布量產(chǎn)面向下一代智能手機和平板機等便攜設備的3xnm 2GB LPDDR3內(nèi)存芯片,今天也宣布了另外一種DDR3內(nèi)存的登場:工藝制造的DDR3L-RS DRAM已經(jīng)開始批量供應,主要針對超極本、平板機等超輕薄計算設備。

本文引用地址:http://www.ljygm.com/article/136988.htm

  DDR3L-RS此前被稱作DDR3Lm,是對DDR3L規(guī)格的進一步優(yōu)化,通過降低自我刷新耗電量(IDD6)來降低整體功耗,電壓為標準的1.35V,同時保持與標準DDR3相同的性能、質量和可靠性,運行頻率667/800MHz。

  IHS iSuppli認為這是一種非常出色的內(nèi)存規(guī)格,預計會有不少超輕薄平臺采納它。

  的首批DDR3L-RS內(nèi)存芯片采用工藝制造,F(xiàn)BGA封裝,單顆容量2Gb(128Mb×16/256Mb×8)、4Gb(256Mb×16/512Mb×8/1Gb×4),已經(jīng)率先通過了Intel 7/C216系列芯片組、Ivy Bridge Core i7系列處理器新平臺的各方面測試。

  還在試產(chǎn)更大容量的8Gb DDR3L-RS,分為256Mb×32、512Mb×16兩種規(guī)格,運行頻率800MHz,預計今年12月份正式投產(chǎn)。

  明年年初,我們則會看到基于下一代DDR4內(nèi)存規(guī)格的新型DDR4-RS。



關鍵詞: 美光 30nm

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