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亞微米CMOS電路中VDD-VSSESD保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)二

作者: 時間:2012-10-11 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
3 仿真分析及具體設(shè)計(jì)結(jié)果

  3.1 仿真分析

  在亞微米的ESD結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)中,一種常見的具體的ESD瞬態(tài)檢測電壓如圖2 -VSS間的電壓鉗位結(jié)構(gòu)。其原理如下:

  主要利用結(jié)構(gòu)中的RC延遲作用,一般T=RC被設(shè)計(jì)為100ns-1000ns之間,而ESD脈沖通常為納秒級,其上升時間為十幾納秒。初始狀態(tài),IC處于懸空狀態(tài)下,當(dāng)個正ESD電壓出現(xiàn)在電源線上,而VSS相對為0時,Vx通過RC開始充電,由于其充電常數(shù)T比的上升時間大的多,致使Vx無法跟隨VDD的變化,從而使P0管打開,N0管關(guān)閉,Vg電壓迅速上升,N1大管開啟,從而提供了一個從VDD到VSS的低阻抗大電流泄放通道并對內(nèi)部的VDD與VSS有一個電壓鉗位作用,從而有效地保護(hù)了內(nèi)部電路。 在正常上電時,因?yàn)檎5纳想姇r間為毫秒級,所以Vx的充電可以跟隨VDD變化,當(dāng)上升到一定電壓時,N0管開啟,P0管一直關(guān)閉,Vg=0,N1管一直關(guān)斷無效。

  對上述例子中圖2結(jié)構(gòu)的具體仿真見圖5、圖6。

  

亞微米CMOS電路中VDD-VSSESD保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)二

  

亞微米CMOS電路中VDD-VSSESD保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)二

  從上述仿真分析及實(shí)際的ESD結(jié)果來看,該結(jié)構(gòu)本身首先必須要有一定的健壯性,其自身的健壯性則與以下兩方面有關(guān):

  (1)該結(jié)構(gòu)的邏輯設(shè)計(jì),即各管子尺寸的設(shè)計(jì),以保證該結(jié)構(gòu)在正常上電時能完全關(guān)斷,使電路正常工作,當(dāng)ESD發(fā)生時能有效開啟,從而保護(hù)內(nèi)部結(jié)構(gòu)。通常T=RC的值的設(shè)計(jì)要在100ns-1000ns之間,R可由倒比管或阱電阻實(shí)現(xiàn),而C可直接由MOS電容構(gòu)成,P0、N0管的寬長比W/L不用很大,其溝長比內(nèi)部最小溝長稍大,該結(jié)構(gòu)因?yàn)槌惺芰薊SD大電流泄放通道的任務(wù),N1管的寬長比4W/L要比較大,在不影響面積的情況下盡可能大,管子溝長比內(nèi)部最小溝長大。

  

亞微米CMOS電路中VDD-VSSESD保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)二

  (2)該結(jié)構(gòu)的版圖設(shè)計(jì)非常關(guān)鍵,其設(shè)計(jì)不當(dāng)就可能導(dǎo)致自身的損壞。特別是N1管子版圖設(shè)計(jì),其漏區(qū)孔距柵要有一定距離,即有一定的壓艙(Ballast)電阻時電流開啟泄放更均勻。


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關(guān)鍵詞: CMOS VDD VSSESD

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