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獨擁四大連續(xù)制程設備 TEL成EUV出貨大贏家
- 國際設備大廠東京威力科創(chuàng)(TEL)為全球唯一擁有沉積、涂布/顯影、蝕刻、清洗四大連續(xù)制程設備之公司,是晶圓片進入EUV曝光前重要步驟。TEL宮城總裁神原弘光指出,隨著芯片設計演進,蝕刻技術不斷朝著3D化方向演進,垂直堆棧發(fā)展、更有效利用空間,然而堆棧層數(shù)的增加,在成膜次數(shù)跟蝕刻時間、次數(shù)也會隨之增加,所需的機臺數(shù)量同步成長。 EUV大廠擁有近乎100%市占率,TEL在涂布/顯影與之緊密配合,同樣近乎獨占;換言之,只要EUV出貨,TEL亦將同步受惠。TEL更透露,早已在臺設置研發(fā)中心,近期更會擴增潔凈室規(guī)模
- 關鍵字: 制程設備 EUV TEL
產(chǎn)能有望提高50%,這家半導體設備廠商投建新廠
- 近日,半導體設備商TEL(Tokyo Electron)宣布,預計半導體產(chǎn)業(yè)將出現(xiàn)新需求,將斥資約220億日元(約1.67億美元)于東北部興建新廠。TEL新廠地點為東北部巖手縣奧州市,子公司Tokyo Electron Technology Solutions已與奧州市就工廠選址達成協(xié)議。新廠完成后是TEL奧州市第七家工廠,其他六廠處于生產(chǎn)滿載狀態(tài)。據(jù)日經(jīng)亞洲報道,TEL新廠預定2025年秋季完工,專攻制造晶圓沉積設備。投產(chǎn)后,可望將集團制造芯片設備的產(chǎn)能提高50%。如果輔以生產(chǎn)效能改良,產(chǎn)能最高可能發(fā)揮
- 關鍵字: 產(chǎn)能 半導體設備 TEL
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