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原子級芯片對準:激光全息圖可為 3D 半導(dǎo)體覆蓋精度設(shè)定新標準

  • 馬薩諸塞大學(xué)阿默斯特分校的科學(xué)家們推出了一種使用激光和超透鏡對齊芯片層的新方法。據(jù) SciTechDaily 報道,據(jù)稱這項新技術(shù)可以達到原子級的精度。這一進步對于下一代工藝技術(shù)以及多小芯片 3D 設(shè)計的集成可能至關(guān)重要。套刻精度(芯片的一層與底層的精確對準)是當今芯片制造工具最關(guān)鍵的功能之一,因為每個帶有邏輯芯片的晶圓都需要由不同的機器執(zhí)行 4,000 多個制造步驟?,F(xiàn)代芯片制造工具主要使用集成到光刻系統(tǒng)中的先進光學(xué)計量、對準標記和閉環(huán)控制系統(tǒng)來執(zhí)行套刻作。然而,現(xiàn)有方法面臨局限性,
  • 關(guān)鍵字: 芯片對準  激光全息  3D半導(dǎo)體  

淺析激光全息轉(zhuǎn)移紙在包裝防偽中的應(yīng)用

  • 激光全息轉(zhuǎn)移紙的概念和原理激光全息轉(zhuǎn)移紙亦稱激光卡紙,它是將傳統(tǒng)的只能記載在塑料薄膜上的激光全息文字...
  • 關(guān)鍵字: 激光全息  轉(zhuǎn)移紙  包裝防偽  
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激光全息介紹

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