光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
顯卡、內(nèi)存全在跌 ASML的EUV光刻機賣不動：一下少了15臺
- 全球半導(dǎo)體市場從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩，部分領(lǐng)域跌價跌得厲害，比如顯卡、內(nèi)存及SSD等，這一波芯片價格下滑也會影響廠商的生產(chǎn)計劃，結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機賣不動了，今年出貨量減少15臺。ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財報，當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元，好于市場預(yù)期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長35%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。雖然業(yè)績大漲，但是ASML對全年的預(yù)期更加悲觀，從之前預(yù)期增長20%下調(diào)到了增長10%，其
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卡脖子也沒用 國內(nèi)廠商芯片新技術(shù)繞過EUV光刻機
- 毫無疑問，如今國內(nèi)芯片廠商面前最大的障礙就是EUV光刻機，不過EUV光刻機是研制先進芯片的一條路徑，但并非唯一解。 對于國內(nèi)廠商來說，當(dāng)前在3D NAND閃存的發(fā)展上，就因為不需要EUV機器，從而找到了技術(shù)追趕的機會。而在DRAM內(nèi)存芯片領(lǐng)域，盡管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV，可來自浙江海寧的芯盟則開辟出繞過EUV光刻的新方案。芯盟科技CEO洪沨宣布基于HITOC技術(shù)的3D 4F2 DRAM架構(gòu)問世。他指出，基于HITOC技術(shù)所開發(fā)的全新架構(gòu)3D 4F2 DRA
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臺積電高管：將在2024年引入阿斯麥最新極紫外光刻機
- 6月17日消息，據(jù)外媒報道，臺積電高管周四表示，該公司將在2024年引入荷蘭廠商阿斯麥的最新一代光刻機?！ ∨_積電研發(fā)高級副總裁米玉杰在硅谷舉行的技術(shù)研討會上表示，“展望未來，臺積電將在2024年引入高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機，為的是開發(fā)客戶所需相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施和模式解決方案，進一步推動創(chuàng)新?！薄 ∶子窠懿⑽赐嘎缎乱淮饪虣C引入后何時用于大規(guī)模生產(chǎn)芯片。阿斯麥推出的第二代極紫外線光刻機能用于制造尺寸更小、處理速度更快的芯片。臺積電競爭對手英特爾公司此前表示，將在2025年之前開始使用新一代光刻機生產(chǎn)芯片，并
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佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a”Grade10升級包
- 佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF ※1半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。KrF半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今，已經(jīng)在生產(chǎn)存儲器和邏輯電路的大型半導(dǎo)體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發(fā)布的“Grade10”升級包將助力該設(shè)備在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上，以每小時高達(dá)300片※2晶圓的加工能力實現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平※3。
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機最新進展：目標(biāo) 2024-2025 年進廠
- 5 月 29 日消息，半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時間來準(zhǔn)備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會比這更快。目前，最先進的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說，它們大都具有 0.33 NA（數(shù)值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節(jié)點 (36 nm ~ 38 nm)
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業(yè)績超預(yù)期：日本佳能光刻機銷售火爆
- 光刻機是半導(dǎo)體芯片制造中的核心設(shè)備，日本佳能公司也有光刻機，現(xiàn)在賣得也不錯，推動業(yè)績大漲。很多人都知道佳能主業(yè)是相機，不過這幾年全球數(shù)碼相機業(yè)務(wù)持續(xù)下滑，佳能也難免受到?jīng)_擊，最近幾年增長的反而是其他業(yè)務(wù)，該公司即將發(fā)布2022財年（2021年4月到今年3月），預(yù)計全年利潤可達(dá)2500億日元，約合19億美元或者126億人民幣，比1月份公布的指引高出50億日元，同比大漲20%。推動佳能業(yè)績大漲的業(yè)務(wù)主要是安全攝像頭以及光刻機，而且隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加，佳能的光刻機業(yè)務(wù)還會持續(xù)增長。從佳能官網(wǎng)上可以查到，該
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ASML公司開撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機另有原因
- ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導(dǎo)體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機。然而，ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機，而一部EUV光刻機上就有超過10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機一直是供不應(yīng)求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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投資5000多萬 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機：ASML都沒有
- 光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片?！ 」饪虣C的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝?！ 《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合51
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光刻機“電老虎” 中芯國際一年耗電29億度：不到臺積電零頭
- 芯片制造是公認(rèn)的高科技，但是這也是個非常消耗電力及水力的行業(yè)，其中的關(guān)鍵設(shè)備光刻機就是名副其實的電老虎，EUV光刻機一天就能耗電3萬度以上，導(dǎo)致晶圓生產(chǎn)中電費都是高成本的存在。那國內(nèi)最大的晶圓制造企業(yè)中芯國際到底有多耗電呢？該公司日前也發(fā)布了企業(yè)責(zé)任報告，公布了2021年度的能耗情況，具體如下：2021年，中芯國際能源消耗總量為2,887.69百萬千瓦時，能源消耗強度為12.77千瓦時 /8 吋晶圓當(dāng)量-光罩?jǐn)?shù)，與 2020年基本相當(dāng)。簡單來說，中芯國際去年的總能耗大概是28.9億度電，其中直接的電力消耗
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佳能將于2023年上半年發(fā)售3D半導(dǎo)體光刻機，曝光面積是現(xiàn)在的4倍
- 4 月 1 日消息，據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道，佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體 3D 技術(shù)的光刻機。佳能光刻機新品最早有望于 2023 年上半年上市。曝光面積擴大至現(xiàn)有產(chǎn)品的約 4 倍，可支持 AI 使用的大型半導(dǎo)體的生產(chǎn)。3D 技術(shù)可以通過堆疊多個半導(dǎo)體芯片使其緊密連接來提高性能的方式。據(jù)介紹，在放置芯片的板狀零部件上，以很高的密度形成以電氣方式連接各個芯片的多層微細(xì)布線，佳能就正在開發(fā)用于形成這種布線的新型光刻機，過在原基礎(chǔ)上改進透鏡和鏡臺等光學(xué)零部件，來提高曝光精度以及布線密度。據(jù)稱，普通光刻機的分辨率為十幾微米，但
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攻克“光源中的光源”，中國有機會
- 當(dāng)前，芯片問題廣受關(guān)注，而半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機為代表的高端光刻機，則是我國集成電路（IC）產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展必須邁過的“如鐵雄關(guān)”。如何在短期內(nèi)加快自主生產(chǎn)高端光刻機的步伐，打破國外的技術(shù)封鎖和市場壟斷？筆者認(rèn)為，應(yīng)找準(zhǔn)關(guān)鍵技術(shù)，攻克核心設(shè)備，躋身上游產(chǎn)業(yè)。認(rèn)清光刻關(guān)鍵技術(shù)對于光刻機，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽從美國的“擺布”？一方面，美國在ASML早期研發(fā)階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續(xù)扶持
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總投資155億 國產(chǎn)CMOS傳感器工廠又迎來一臺ASML先進光刻機搬入
- 日前國產(chǎn)芯片廠商格科微宣布成功實現(xiàn)整套ASML光刻機中的關(guān)鍵設(shè)備——先進ArF光刻機的搬入。據(jù)格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計劃分階段順利驗收，相關(guān)廠務(wù)系統(tǒng)配備進展順利，共有六十一臺設(shè)備已經(jīng)搬入。未來，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關(guān)設(shè)備仍會陸續(xù)搬入。格科微表示，ArF光刻機的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”建設(shè)的關(guān)鍵節(jié)點。依托自有工廠即格科半導(dǎo)體的先進制程，格科微將進一步加快先進CIS工藝和高階專利像素的研發(fā)速度，并在自有工廠實現(xiàn)批量生產(chǎn)驗證，從而極大縮短高端產(chǎn)品從研
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光刻機巨頭阿斯麥 ASML 將于新加坡擴建新產(chǎn)線
- 3 月 29 日消息，光刻機巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠的開幕式上宣布，將在該工廠興建第二座制造車間，預(yù)計將于 2023 年初投產(chǎn)。擴建后的工廠將讓該公司在新加坡的產(chǎn)能增加 3 倍，全球產(chǎn)能倍增。ASML 是世界領(lǐng)先的科技公司之一，全球半導(dǎo)體價值鏈的主要參與者。這里設(shè)計的技術(shù)和機器有助于在新加坡、韓國或美國生產(chǎn)芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設(shè)備。在生產(chǎn)處理器芯片的過程中，EUV 光刻機最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機。在過去的十年時間里，阿斯麥總共售出大
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光刻機傳來新消息，臺積電不得不接受現(xiàn)實
- 臺積電正在加快芯片產(chǎn)能，不管是成熟工藝還是高端芯片，臺積電都具備強勁的制造實力。但臺積電并沒有就此止步，仍積極開展美國，日本的新建工廠計劃。因此臺積電在未來還會有更多的產(chǎn)業(yè)鏈采購需求，可是光刻機傳來新消息，ASML表態(tài)產(chǎn)能供應(yīng)不足。ASML為何會出現(xiàn)產(chǎn)能不足的情況呢？光刻機供應(yīng)緊張，對臺積電影響幾何呢？關(guān)于光刻機供貨，ASML發(fā)出警告ASML生產(chǎn)的光刻機遍布世界各地，交付到各個芯片制造商手中，或者提供給一些廠商進行生產(chǎn)研究。根據(jù)光刻機的需求不同，覆蓋領(lǐng)域也是不一樣的，從芯片制造產(chǎn)業(yè)到光刻膠材料生產(chǎn)，以及封
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光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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