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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻機

光刻機領域國內(nèi)接近世界先進水平，9nm線寬光刻實現(xiàn)突破

  • 　　SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎。 　　根據(jù)這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導體行業(yè)相關產(chǎn)品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 　　光刻機被稱
  • 關鍵字： 光刻機  ASML   

耗費巨資購買EUV光刻機 臺積電有何打算？

  • 臺積電、三星與英特爾之間先進制程的戰(zhàn)局依舊如火如荼的展開，三方比拼毫不手軟。
  • 關鍵字： 臺積電  光刻機  

片內(nèi)相位測量工具模擬光刻機

  • 關鍵字：片內(nèi)相位測量 模擬光刻機采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑（NA）的193nm光刻機和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的極限達到了32nm節(jié)點。不利的因素是掩膜的復雜度正在以指數(shù)級遞增，而業(yè)界又迫切需要
  • 關鍵字： 相位測量  模擬  光刻機    

ASML TWINSCAN系統(tǒng)實現(xiàn)新的里程碑

  • 　　ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機的芯片制造商實現(xiàn)了生產(chǎn)新紀錄，即在24小時內(nèi)實現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設備幫助他們提高了300mm光刻生產(chǎn)能力。 　
  • 關鍵字： 光刻機  晶圓  

沉浸式光刻機供貨緊缺 臺系內(nèi)存芯片廠制程升級受阻

  • 　　據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機目前供貨十分緊缺，因此臺系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設備的時間 可能會再后延12個月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機對這些廠商轉(zhuǎn)移到38nm以上級別制程至關重要，因此預計臺系內(nèi)存芯片廠商制程轉(zhuǎn)換的進度 會受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開發(fā)的沉浸式光刻機，可用于制造12英寸32nm及以上級別制程的產(chǎn)品. 　　此前曾有報道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長到了將近12個月，
  • 關鍵字： ASML  光刻機  內(nèi)存芯片  

Imec和ASML共同驗證用于沉浸式光刻的新型照明系統(tǒng)

  • 　　Imec和ASML已合作驗證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay，通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應用價值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設備將安裝FlexRay產(chǎn)品，幫助imec進一步開拓沉浸式光刻技術的應用。
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

ASML Q2業(yè)績創(chuàng)新高 6套EUV設備將交貨

  • 　　ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。 　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice認為，Q2銷售的強勁增長證明了半導體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設備的需求，已有近20套NXT:1950i 設備運出。所有ASML的先進NXT光刻機都包括了一個或多個一體化光刻部件。對于下一代將要應用于20nm以下節(jié)點的產(chǎn)品，E
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

09尼康Nikon光刻機銷售下降

  • 　　Nikon的09半導體設備銷售額與08年相比下降31.7%為16億美元。 　　09年虧損6,32億美元, 相比于08年盈利8600萬美元。其中半導體用光刻機銷售數(shù)量下降40%及LCD用光刻機下降30%。 　　按路透社報道,日本尼康公司計劃在2011年3月底結(jié)算的年度中, 銷售半導體用光刻機48臺, 相比09年的36臺,及LCD用光刻機58臺, 相比09年的45臺。
  • 關鍵字： Nikon  光刻機  

全球存儲器短缺的三個理由

  • 　　2010年全球存儲器可能出現(xiàn)供應缺貨，而且非?？赡軙永m(xù)下去。為什么?可能有三個原因，1)，存儲器市場復蘇;2)，前幾年中存儲器投資不足;3)，由ASML供應的光刻機交貨期延長。 　　巴克菜投資公司的分析師 Tim Luke在近期的報告中指出，通過存儲器的食物供應鏈看到大量的例證，認為目前存儲器供應偏緊的局面將持續(xù)2010整年，甚至延伸到2011年。 　　據(jù)它的報告稱，2010年全球NAND閃存的位增長可達70%，而2009增長為41%。2010年全球DRAM的位增長達52%。 　　Luke認為
  • 關鍵字： 存儲器  NAND  光刻機  

半導體設備制造商面臨六大挑戰(zhàn)

  • 　　2009年對于半導體設備制造商是不可忘懷之年。所有制造商都受到危機的影響，但是2010年半導體工業(yè)正處于恢復之中，然而設備制造商仍面臨眾多的挑戰(zhàn)。 　　在SEMI主辦的ISS會上Globalfoundries的fab2總經(jīng)理 Norm Armour列出設備制造商面臨的六大挑戰(zhàn)。 　　1 兼并加劇 　　由于在有的設備類中仍有4-5家制造商，所以兼并將加劇。當然也有如光刻機，僅剩下兩家，但是CVD，PVD，Etch仍顯太多。 　　2 光刻機價格高聳 　　用在光刻上的投資越來越大(一臺193nm浸
  • 關鍵字： 半導體設備  光刻機  設備制造  

半導體業(yè)衰退重創(chuàng)設備業(yè)

  • 　　在全球金融危機影響下，半導體業(yè)正進入前所未遇的嚴重衰退時期，半導體固定資產(chǎn)投資在2008年下降27.3%基礎上，2009年將再下降34.1%。綜合分析各大分析機構(gòu)的預測數(shù)據(jù)，2009年全球半導體業(yè)年銷售額的下降幅度將在15%到20%之間。 　　半導體設備業(yè)受災最重 　　半導體產(chǎn)業(yè)鏈中設備業(yè)受到的影響相對最為嚴重。依Gartner公司的官方數(shù)據(jù)顯示，全球半導體業(yè)固定資產(chǎn)投資兩年來逐漸下滑，2007年為592億美元，2008年下降了27.3%，為490億美元，而09年將再次下降34.1%，為323億美
  • 關鍵字： 應用材料  半導體  存儲器  處理器  光刻機  芯片制造  200906  

KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰(zhàn)的首款計算光刻機

  • 　　KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天推出其領先業(yè)界的最新版計算光刻機 PROLITH 11。這種新型光刻機讓用戶首次得以評估當前的二次成像方案，并以較低的成本針對光刻在設計、材料與制程開發(fā)等方面挑戰(zhàn)，嘗試不同的解決方案。這種新型計算光刻機還支持單次成像和浸沒技術。 　　KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復雜性及實驗成本的大幅增加，電路設計師與芯片制造商不得不面對二次成像光刻所帶來的挑戰(zhàn)。計算光刻已成為控制這
  • 關鍵字： KLA-Tencor  光刻機  二次成像光刻  

中芯國際今年將進全球45納米"俱樂部"

  • 　　中芯國際正悄悄從海外進口關鍵設備，欲搶在今年年底試產(chǎn)45納米芯片，從而進入全球半導體代工業(yè)45納米的“俱樂部”。 　　消息人士對《第一財經(jīng)日報》透露，29日中芯國際上海12英寸廠采購浸潤式光刻機已到位，“這標志著中芯國際在量產(chǎn)45納米芯片方面有了生產(chǎn)保障。” 　　天價光刻機悄悄到廠 　　本報獲悉，這是中國大陸的第一臺浸潤式光刻機，該設備由荷蘭ASML生產(chǎn)，后者是全球這一領域的第一大供應商。上述消息人士透露，由于光刻機屬高精密設備，為防止震動，從機場
  • 關鍵字： 中芯國際  45納米  芯片  半導體  臺積電  光刻機  
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