- 據韓媒援引業(yè)內人士消息，三星電子已決定在美國得克薩斯州奧斯丁設立EUV半導體工廠，以滿足日益增長的小型芯片需求和美國重振半導體計劃。該工廠將采用5nm制程，計劃于今年Q3開工，2024年投產，預計耗資180億美元，同時也是三星電子首次在韓國之外設立EUV產線。去年，臺積電去宣布將在美國建設芯片工廠，建成之后將采用5nm工藝為相關的客戶代工芯片，目標是2024年投產。最新消息稱，臺積電管理層目前正在討論，他們在美國的下一座芯片工廠，是否采用更先進的3nm制程工藝，為相關的客戶代工芯片。
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三星 5nm EUV 芯片廠
- 本周一，外媒援引韓國產業(yè)通商資源部一份有關半導體產業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報道稱，光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元，在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心時，外媒還提到，雖然三星電子、SK海力士已引進了阿斯麥生產的極紫外光刻機，但他們獲得的數量同臺積電相比，有不小的差距?！ ⊥饷皆趫蟮乐刑岬剑⑺果溎壳耙焉a的極紫外光刻機，70%是賣給了臺積電，留給其他廠商的就只有30%。 阿斯麥是目前全球唯一能制造極紫外光刻機的廠商，他們已推出了TWIN
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阿斯麥 極紫光刻機 EUV 臺積電
- 做為國內最大也是最先進的半導體制造公司，中芯國際在先進工藝上的進展引人關注，其中7nm及以下節(jié)點非常重要，這還牽涉到EUV光刻機?！ ∪涨坝泄擅裨诨悠脚_上詢問，稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝，要求中芯國際澄清?！ Υ?，中芯國際表示，公司不針對傳言進行評論。 從中芯國際官網的介紹來看，該公司提到的最先進工藝還是14nm，接下來的是N+1、N+2工藝，但沒有指明具體的工藝節(jié)點。 中芯國際聯合CEO趙海軍曾表示，經過三年的積累，FinFET工藝已經取得了不錯的成績，N+1已經
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- 藍色巨人出手就是王炸?！ ?月6日消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片。 核心指標方面，IBM稱該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方毫米多少百萬顆晶體管）為333.33，幾乎是臺積電5nm的兩倍，也比外界預估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?！ ?nm晶圓近照 換言之，在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內，就能容納500億顆晶體管。 同時，IBM表示，在同樣的電力消耗下，其性能比當前7nm高出45%，輸出同樣性能則減少75%的功耗?！ 嶋H上，I
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- 近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發(fā)關注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機。”但是這一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術的現有協(xié)議相關?！ 】赡芎芏嗑W友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實際上也是如此。 ASML澄清與中
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中芯國際 ASML DUV EUV
- 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?！ ∮腥苏f阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司，這一點也不夸張。阿斯麥所生產的光刻機，是半導體工廠生產芯片的最關鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花。 如果有任何廠商的光刻機設備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠商就要付給他們以小時計的美金?！ ≡?，某上市公司的光刻機出問題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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- 拜登上任在即，他會緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國在包括光刻機在內的半導體領域，仍將出現進一步的對抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開源指令集架構RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」？ 離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?！ ≡谶^去川普任職期內，中美之間的貿易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一?！ ∮捎诿绹膲毫Γ渥钚聝r值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售?！ ∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
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EUV 光刻機 ASML
- 14日訊，《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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- 雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術，但是毫無疑問，這就是光刻技術的未來。與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這
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- 9月30日訊，此前有媒體報道，由于先進制程推進順利和訂單量擴大，臺積電將加大EUV光刻機的采購力度，預計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復稱：公司不評論市場傳聞。據了解，一臺EUV光刻機售價近8億元，55臺EUV光刻機價值約440億元。相關閱讀：臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機：花費超440億元出處：快科技 作者：萬南芯片制程已經推進到了7nm以下，這其中最關鍵的核心設備就要數EUV光刻機了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。來自Digitimes的報道稱，臺積電打算在
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- 9月16日，中國科學院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經設立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學中心和特色所四類機構，目的是根據科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置?！斑@個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完，
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- 相信大家都知道，在前幾天，ASML重磅官宣了一條大新聞，正式在中國寶島臺灣建設了第一家海外培訓中心—亞洲培訓中心，這家培訓中心標配了14名培訓技師，一年大約可以培養(yǎng)超過360名EUV光刻機操作工程師，能夠讓芯片生產加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機，從而可以進一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其實ASML在臺灣建設這座亞洲培訓中心，最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養(yǎng)更多的光刻機操作工程師，因為在過去兩年時間里，ASML一共售賣了57臺EUV光刻機產品，其中臺積電就購得了30臺，占據著絕大部分的份額，
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- 24日，臺積電舉辦了第26屆技術研討會，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法，5nm工藝規(guī)劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術，并且已經在大規(guī)模量產之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開發(fā)中，規(guī)劃2021年量產，相較于第一代5nm，功耗進一步降低10%、性能提升5%，據稱面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據手頭資料，臺積電的5nm有望應用在蘋果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
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臺積電 5nm EUV
- 臺積電在高端制程技術上沖鋒陷陣，已經成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶，累計已經購買了 30 臺 EUV 設備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術培訓中心后，也在臺積電先進制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南，成立 EUV 技術培訓中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達 180&nbs
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- 日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設備，EUV技術已經被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產量已經達到1000萬片。他說，EUV已經成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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