12月13日消息，光刻機大廠ASML宣布，已與韓國三星電子簽署備忘錄，將共同投資1萬億韓元在韓國建立研究中心，并將利用下一代極紫外（EUV）光刻機研究先進半導體制程技術。另外，ASML也宣布與SK海力士簽署ESG備忘錄，雙方在包括環(huán)境、社會和公司治理項目展開合作。

值得一提的是，上個月初有消息顯示，三星電子將在未來五年內從ASML采購50套設備，平均每套單價約為2,000億韓元（約合人民幣10.92億元），總價值可達10萬億韓元（約合人民幣546億元）。

三星電子于2022年6月底宣布量產了全球首個采用基于全環(huán)繞柵極（GAA）的3nm制程技術，使得該公司一直在努力確保能采購更多EUV光刻機，目標是使該公司能在2024年上半年進入第二代3nm制程技術之后，2025年量產2nm制程技術，并在2027年量產1.4nm制程。

正因如此，三星集團董事長李在镕在2022年6月訪問了ASML總部，與ASML執(zhí)行長Peter Bennink討論了EUV的采購問題，并在同年11月與訪問韓國的Peter Bennink進行了進一步會談。鑒于EUV光刻機從下訂到交貨的時間至少需要一年的情況下，當時的會面討論預計將幫助盡快拿到設備。

此外，根據ASML的計劃，其將在2023年底前發(fā)布首臺商用High-NA（0.55 NA ）EUV光刻機，并在2025年量產出貨。這使得自2025年開始，客戶就能從數值孔徑為0.33傳統(tǒng)EUV多重圖案化，切換到數值孔徑為0.55 High-NA EUV單一圖案化，降低制程成本，提高產量。

目前，預估High-NA EUV光刻機將會有五大客戶，包括英特爾、臺積電、三星、SK海力士、美光等。

編輯：芯智訊-林子