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中國IC設計的主流將是什么?

作者:王瑩 時間:2012-09-12 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  筆者在 Forum北京站上獲悉,不同的角度所見的主流不同。

本文引用地址:http://www.ljygm.com/article/136703.htm

                                       從芯片數(shù)量看
  當前,從世界范圍來看,往先進工藝節(jié)點移動的勢頭是很強大的。因為各大廠在28nm、20nm的投入巨大,將來產(chǎn)能成熟后,預計產(chǎn)能會很大。其成本的誘因是非常大的,使客戶有很大的動力向28、20nm移動。

  如果從世界代工廠的產(chǎn)能來看,45nm以下的產(chǎn)能基本是滿載情況。0.18微米、0.25微米的利用率低很多。這說明起碼新的設計正在向新工藝移動。

  如果從全球片的整體出貨量來看,現(xiàn)在的主流是45/40nm節(jié)點。從發(fā)展勢頭看,還是往32nm、28nm走。

                                       從設計的數(shù)量看
  如果單純看設計的數(shù)量,80%是模擬和混合信號(成熟工藝),tapeout量雖然很大,但不代表生產(chǎn)的數(shù)量大。



關鍵詞: Mentor 晶圓

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