5月17日消息，原本已經落后的日本半導體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。

日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買設備。

Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、測試也沒公布。

Rapidus公司成立了僅僅9個月多，不到一年時間就籌備完成EUV光刻機，進度確實很快。

小池淳義表示，通常大規(guī)模量產先進工藝需要至少1000名工程師，但他們引入了AI和自動化技術，現在有500名工程師了，用一半的資源就能完成。

根據該公司的計劃，他們2025年試產2nm工藝，2027年量產，2030年代預計營收將達到1萬億日元。